Részletek
A HOLIKA HOLIKA Pure Essence Rizskivonatos Arcmaszk a bőr hidratálását és táplálását helyezi előtérbe, különösen fakó vagy vízhiányos arcbőr esetén. A rizs a keleti bőrápolásban régóta ismert bőrpuhító és bőrszépítő összetevő, amely segít javítani a bőr textúráját és megjelenését. A könnyű esszenciával átitatott fátyolmaszk elősegíti a hatóanyagok felszívódását, így rövid idő alatt is komfortosabb, simább és egységesebb bőrkép érhető el.
Fő összetevők:
- Rizskivonat – táplálja, puhítja és segít ragyogóbbá tenni a bőrt
- Hialuronsav – intenzíven hidratál, segít megkötni a nedvességet
- Glicerin – támogatja a bőr hidratáltságát és rugalmasságát
- Növényi kivonatok – hozzájárulnak a bőr komfortérzetéhez
Miért szeretjük?
- Láthatóan frissíti és szépíti a bőrt
- Hidratál és táplál egyszerre
- Gyors, látványos eredményt ad
- Ideális otthoni arcápoló rituáléhoz
Milyen bőrtípusra / problémára ajánlott?
- Normál bőrre
- Száraz és vízhiányos bőrre
- Fakó, fáradt arcbőrre
Arctisztítás után helyezd fel a maszkot az arcra, és hagyd hatni 15–20 percig. Érdemes a tasakot kicsit átnyomkodni felnyitás előtt, hogy az esszencia jól átjárja a maszk anyagát. Eltávolítás után a megmaradt esszenciát gyengéden masszírozd be a bőrbe, öblítés nem szükséges. Hetente 1–2 alkalommal vagy szükség szerint alkalmazható.
Kiszerelés: 20ml
Összetevők Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Polyglyceryl-10 Laurate, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, 1,2-Hexanediol, Hydroxyethylcellulose, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Oryza Sativa (Rice) Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Arginine, Glyceryl Caprylate, Ethylhexylglycerin, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Glycine Max (Soybean) Seed Extract, Propylene Glycol, PVM/MA Copolymer, Citrus Sinensis Peel Oil Expressed, Viola Tricolor Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Flower Extract, Centaurea Cyanus Flower Extract, Pogostemon Cablin Oil, Avandula Angustifolia (Lavender) Oil, Disodium EDTA
