A HOLIKA HOLIKA Pure Essence Rizskivonatos Arcmaszk a bőr hidratálását és táplálását helyezi előtérbe, különösen fakó vagy vízhiányos arcbőr esetén. A rizs a keleti bőrápolásban régóta ismert bőrpuhító és bőrszépítő összetevő, amely segít javítani a bőr textúráját és megjelenését. A könnyű esszenciával átitatott fátyolmaszk elősegíti a hatóanyagok felszívódását, így rövid idő alatt is komfortosabb, simább és egységesebb bőrkép érhető el.
Fő összetevők:Rizskivonat – táplálja, puhítja és segít ragyogóbbá tenni a bőrt Hialuronsav – intenzíven hidratál, segít megkötni a nedvességet Glicerin – támogatja a bőr hidratáltságát és rugalmasságát Növényi kivonatok – hozzájárulnak a bőr komfortérzetéhez Miért szeretjük? Láthatóan frissíti és szépíti a bőrt Hidratál és táplál egyszerre Gyors, látványos eredményt ad Ideális otthoni arcápoló rituáléhoz Milyen bőrtípusra / problémára ajánlott? Normál bőrre Száraz és vízhiányos bőrre Fakó, fáradt arcbőrre Arctisztítás után helyezd fel a maszkot az arcra, és hagyd hatni 15–20 percig. Érdemes a tasakot kicsit átnyomkodni felnyitás előtt, hogy az esszencia jól átjárja a maszk anyagát. Eltávolítás után a megmaradt esszenciát gyengéden masszírozd be a bőrbe, öblítés nem szükséges. Hetente 1–2 alkalommal vagy szükség szerint alkalmazható. Kiszerelés : 20 ml Összetevők Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Polyglyceryl-10 Laurate, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, 1, 2-Hexanediol, Hydroxyethylcellulose, Acrylates/C 10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Oryza Sativa (Rice) Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Arginine, Glyceryl Caprylate, Ethylhexylglycerin, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Glycine Max (Soybean) Seed Extract, Propylene Glycol, PVM/MA Copolymer, Citrus Sinensis Peel Oil Expressed, Viola Tricolor Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Flower Extract, Centaurea Cyanus Flower Extract, Pogostemon Cablin Oil, Avandula Angustifolia (Lavender) Oil, Disodium EDTA
